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派瑞林镀膜 菱威纳米 推荐派瑞林镀膜加工材料

发布日期 :2023-04-14 20:58发布IP:123.58.44.124编号:11684905
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涂装试验设备
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1、所用材料安全环保,派瑞林镀膜加工用途,不含氯、和臭氧层破坏。hgwp的ODP值为0,GWP值为0.25,不影响人体和环境。所形成的涂膜层具有更雹更易散热、易修补等优点,可以很好地替代三防涂层。

2、由于本产品可直接用于手机PCB板的防水处理,与结构防水相比,具有更高的防水安全性和可靠性。由于外观的变形或碰撞,容易引起结构防水失效,而PCB的保护则不会,因此可以使产品的安全系数更高。




考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体,让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强,离子能量带宽集中,可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极(往往是钨丝)在反应气体中很快就烧掉了,另外就是离子流量有极限,派瑞林镀膜,对需要大离子流量的用户可能不适和。

霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强,霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝(阴极)。



派瑞林(Parylene)可以增加铁氧体等磁性材料的介电性及耐高压性能,可以克服普通环氧树脂喷涂等其他涂层工艺处理后不耐磨,不耐酸碱等方面的严重缺陷。其工艺特点:派瑞林(Parylene)涂层物料经蒸发室汽化后进入裂解室后裂解为气体,气体进入沉积室,通过沉积室,即物体表面均匀包覆所述派瑞林层。派瑞林(Parylene)真空气相沉积工艺和磁体覆膜工艺,降低磁体表面的氧化能力,提高磁体的抗蚀性,相比电镀磁体工艺,该镀膜工艺使磁通损失率降低至现有覆膜工艺的50%,且降低了毛坯生产的成本。从而降低企业生产成本,提高产品性能。


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