考夫曼离子源是应用较早的离子源。属于栅格式离子源。首先由阴极在离子源内腔产生等离子体，让后由两层或三层阳极栅格将离子从等离子腔体中抽取出来。这种离子源产生的离子方向性强，派瑞林，离子能量带宽集中，可广泛应用于真空镀膜中。缺点是阴极（往往是钨丝）在反应气体中很快就烧掉了，另外就是离子流量有极限，派瑞林镀膜设备，对需要大离子流量的用户可能不适和。
霍尔离子源是阳极在一个强轴向磁场的协作下将工艺气体等离子化。这个轴向磁场的强不平衡性将气体离子分离并形成离子束。由于轴向磁场的作用太强，霍尔离子源离子束需要补充电子以中和离子流。常见的中和源就是钨丝（阴极）。
离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。
阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。
派瑞林薄膜具有的材料属性，被FDA认可为第VI类高分子材料，咨询派瑞林工艺，它具有更优良的生物相容性、低渗透性、化学惰性和非常低的毒性。组织培养表明：人类细胞更容易在派瑞林表面生长。
派瑞林作为涂层通过的制备涂覆于表面，该涂层超薄敷形性好、耐腐蚀、与人体组织及血液良好相容，它不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，还可有效的防止外界的化学品、水分和体液的侵蚀。
派瑞林镀膜设备-菱威纳米(在线咨询)-派瑞林由东莞菱威纳米科技有限公司提供。东莞菱威纳米科技有限公司位于广东省东莞市长安镇太安路1438号1号楼301室。在市场经济的浪潮中拼博和发展，目前菱威纳米在工业制品中享有良好的声誉。菱威纳米取得全网商盟认证，标志着我们的服务和管理水平达到了一个新的高度。菱威纳米全体员工愿与各界有识之士共同发展，共创美好未来。
