气相沉积与金属喷镀不同，气相沉积不受视线阻碍，需镀膜的产品，其所有的表面皆会被气体单体紧密覆盖，而达到精细均匀、高质量的镀膜表层。
对于腐要求的粘结钕铁硼磁体如果使用时（包括装配，焊接）温度不超过130度可以选择采用，特别是对于小规格磁体不适用电泳的条件下具有很高的效率和良好的抗腐蚀能力，可以满足盐雾120小时。
派拉纶（Parylene）涂层工艺是使用化学气相沉积（CVD）工艺在真空下沉积的。派拉纶（Parylene）的（CVD）工艺分为三个步骤（升华，热解，沉积）。首先，将二聚体（具有两个重复单元的前体）升华。下一步，在高于＞ 500°C的温度下通过热解将二聚体裂解为两种单体。然后，摄像头派瑞林镀膜代加工，单体在基材表面（以及腔室表面）上聚合，派瑞林镀膜加工，形成线性聚合物链。后一步在室温下进行，得到派拉纶（Parylene）保形涂层。通过的真空镀膜机，进行的镀膜加工生产。
派瑞林薄膜具有的材料属性，供应派瑞林镀膜加工，被FDA认可为第VI类高分子材料，它具有更优良的生物相容性、低渗透性、化学惰性和非常低的毒性。组织培养表明：人类细胞更容易在派瑞林表面生长。
派瑞林作为涂层通过的制备涂覆于表面，该涂层超薄敷形性好、耐腐蚀、与人体组织及血液良好相容，它不仅提供了惰性、生物相容的隔离层，还可有效的防止外界的化学品、水分和体液的侵蚀。
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