派瑞林 菱威纳米 动物芯片派瑞林镀膜加工

首先采用深反应离子刻蚀制作微通道，然后沉积派瑞林涂层C在微通道上，动物芯片派瑞林涂层，同时派瑞林涂层沉积在纯铁片上，派瑞林，在其上制作金电极，在200℃真空箱内将派瑞林涂层键合，动物芯片派瑞林耐腐蚀，剥去纯铁片以及采用特殊工艺释放（Parylene）涂层微通道。通过控制（Parylene）涂层沉积的厚度，可以在相同的微通道上制作不同深宽比的派瑞林涂层微通道，同时也可以制作多层结构微通道。用此方法制作的各种微通道(所有微通道的内径为80μm宽、50μm深、壁厚为10μm)。通过此方法，可以快速低成本地制作派瑞林涂层微通道，并通过释放工艺可以获得很好的派瑞林涂层微通道，动物芯片派瑞林镀膜加工，同时可以重复使用硅模，普遍用于气相色谱分析等微流体系统分析中。派瑞林涂层阻滞性佳，湿气及气体渗透性极低，具高屏障效果，抗酸碱性。

离子源类型虽多，目的却无非在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。若是镀工具耐磨层，一般厚度较大而对膜厚均匀性要求不高，可采用离子电流较大能级也较高的离子源，如霍尔离子源或阳极层离子源。

阳极层离子源，与霍尔离子源原理近似。在一条环形（长方形或圆形）窄缝中施加强磁场，在阳极作用下使工作气体离子化并在射向工件。阳极层离子源可以做得很大很长，特别适合镀大工件，如建筑玻璃。阳极层离子源离子电流也较大。但其离子流较发散，且能级分布太宽。一般适用于大型工件，玻璃，磨损，装饰工件。但应用于光学镀膜并不太多。

1.中性盐雲试验(NSS试验)是出现很早目前应用领域很广的一种加速膚蚀试验方法。它采用5%的氯化钠盐水溶液，溶液PH值调在中性范围(6~7)作为喷零用的溶液。试验温度均取35"C，要求盐的沉降率在1~2ml/80cm2h之间。

2.错酸盐零试验(ASS试验)是在中性盐雾试验的基础上发展起来的。它是在5%氯化钠溶液中加入ー些冰錯酸，使溶液的PH值降为3左右，溶液变成酸性，很后形成的盐零也由中性盐变成酸性。它的腐蚀速度要比NSS试验倍左右。

3.铜盐加速錯酸盐零试验(CASS试验)是国外新近发展起来的一种快速盐雲腐蚀试验，试验温度为50C，盐溶液中加入少量铜盐一氯化铜，强烈发膚蚀。它的腐蚀速度大约是NSS试验的8倍。

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