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真空镀膜 菱威真空镀膜厂家 真空镀膜涂料

发布日期 :2023-04-27 10:34发布IP:123.58.44.124编号:11796519
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与化学吸附自限制过程不同,顺次反应自限制原子层沉积过程是通过活性前驱体物质与活性基体材料表面化学反应来驱动的。这样得到的沉积薄膜是由于前驱体与基体材料间的化学反应形成的。图a和b分别给出了这两种自限制反应过程的示意图。由图可知,化学吸附自限制过程的是由吸附前驱体1(ML2)与前驱体2(AN2)直接反应生成MA原子层(薄膜构成),主要反应可以以方程式⑴表示。对于顺次反应自限制过程首先是活化剂(AN)活化基体材料表面;然后注入的前驱体1(ML2)在活化的基体材料表面反应形成吸附中间体(AML),真空镀膜,这可以用反应方程式⑵表示。反应⑵随着活化剂AN的反应消耗而自动终止,具有自限制性。当沉积反应前驱体2(AN2)注入反应器后,就会与上述的吸附中间体反应并生成沉积原子层。


20世纪60年代美国联合碳化物公司推出了Parylene派瑞林系列新型高分子敷型涂层材料,由于其优异的阻隔性能在防潮、防霉、防盐雾的三防涂层材料领域得到广泛应用。派瑞林原料C型、N型、D型、F型、AF4型是派瑞林聚合物的新一代衍生物,包括苯环取代和亚取代两类, 氟原子的引入能够较好地改善薄膜的电学性能和热稳定性。Parylene系列衍生物的研究主要集中在单体环二体的合成方法及薄膜的特性研究,有关薄膜制备方法的报道较少,曾有采用液态前驱体进行薄膜制备的文献报道。


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